在先前消息指出 Apple 设计团队出现变化，也就是 Jony Ive 脱离产品硬体设计、Christopher Stringer 决定离职后，外界都担心会导致下一代 iPhone 设计风格大变。而现在疑似从富士康内部流出的设计图，似乎也说明了这个可能！

根据《9to5Mac》的报导，中国微博上出现了疑似从富士康内部流出的 iPhone 8 设计图。从影像中可以看到，iPhone 8 可能会采用近似 Galaxy S8 的正面设计，而非如先前传闻采用全正面屏幕、并取消前置相机的设计。

而被取消的正面 Home 键，则是可能会变成多数 Android 手机采用的后置指纹辨识器，此外位置不会是常见的上半部，而是在手机的背面中央，这是为了维持 Apple Logo 的跻身位置。

而双镜头相机的部分，与先前传出的设计草图类似，也就是采用垂直双镜头排列的方式。另外手机的厚度将低于 7.2mm，更薄于 iPhone 7 系列机种。然而 Apple 是否会采用这个设计，《9to5Mac》持保留态度。

原因在于这个设计图右上角的“EVT”字样，EVT 所指的是工程验证测试，被认为是 Apple 产品的开发初期阶段，之后 Apple 还到需要进行 DVT 与 PVT 等阶段，才会确认该装置的设计。

由于目前消息多指向 Apple 正全力开发屏幕结合指纹辨识的技术，因此可能是 Apple 的备用方案。若是像三星一样遭遇到技术开发困难，还能确保新 iPhone 可以透过不同形式向市场推出。